Электронно-лучевая сварочная установка EBOCAM EK 125C EG 150-30B

Используется для:
электронно-лучевой сварки в вакууме деталей типа «барабан»

Данный тип оборудования имеет универсальную конструкцию для решения широкого спектра сварочных работ. Система EBOCAM ® совместно с механической и электрической частью  имеет модульную конструкцию.
Размер камеры определяется совместно с заказчиком в зависимости от его задач и варьируется от  0,5 м3 до 60 м3 и более. При этом камеры могут быть скомбинированы как с генератором  высокого (150 кВ) так и низкого (60 кВ) напряжения.
Основное направление использования данного оборудования – обработка крупногабаритных заготовок со сложной геометрией сварного шва или обрабатываемых областей.
Оборудование оснащается либо координатным столом (2 оси – X, Y) либо линейным  столом (1 ось –X) для перемещения заготовок. К этим основным системам движения могут добавляться системы вращения и наклона, а также специализированные механизмы или любая их комбинация.
Точность позиционирования как рабочего инструмента так и системы перемещения с точными допусками скорости обеспечивает результаты самого высокого качества.

Габаритные размеры 2,900х2,000х2,100 мм = 12,2 м3
Рабочий координатный стол
Размеры стола X, Y, Z 1,325/ 975/400 мм
Ход по оси X/Y 1,515 / ± 482,5 мм
Свободное пространство над столом 1,650 мм
Повторяемость позиционирования ± 0,03 мм
Диапазон скорости 1 — 100 мм/с
Макс. допустимая нагрузка макс. 3,000 даН
Поворотное приспособление
Планшайба  Ø 900 мм (размер болта 14 мм)
Числовое управление  
Макс. аксиальная нагрузка 2,000 даН
Макс. радиальная нагрузка 2,000 даН
Макс. момент 1,000 даНм
Диапазон скорости 0.1 – 10 об/мин
Константность скорости V макс. < ± 2 %
Повторяемость позиционирования 0.02 °
Наклонное приспособление
Числовое управление  
Вертикальное перемещение:  
Вертикальный ход 320 мм
Диапазон скорости 0.5 – 20 мм/с
Дискретность 0.01 мм
Повторяемость позиционирования ± 0.01 мм
Наклонное перемещение:  
Диапазон наклонного перемещения 0 º до 125 º
Дискретность 0.01 мм
Повторяемость позиционирования ± 0.05 º
Скорость позиционирования 45 º/мин
Время вакуумирования (в чистой, сухой, пустой камере) до 1,3 х 10-4 мбар < 20 минут
Источник высоковольтного питания:
 Мощность луча 0 до 30 кВт
Ускоряющее напряжение 70 до 150 кВ
Ток луча 0 до 200 мА
Диапазон фокусирования 200 до 1,200 мм
Программируемым логическим контроллером PLC тип S7 400 (Siemens)

Политика конфиденциальности